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俄勒岡州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布擴大合作用于使用亞波長光掩模改善晶圓廠產量的產品。兩家公司表示，Mentor網站將提供用于KLA-Tencor關鍵尺寸（CD）掃描電子顯微鏡（SEM）工具的新計量模板，以減少設置時間并幫助在過程監控應用中收集數據。

Calibre Optical＆amp;過程校正測試模式可從Mentor下載，用于KLA-Tencor的每個8100XP系列CD-SEM測量系統。模板和CD-SEM系統協同工作，直接測量掩模誤差增強功能（MEEF），它表征了從光罩上印刷在硅上的誤差的影響。

“當將Mentor模板與能力結合起來時在同一張CD SEM中快速測量光罩和印刷晶圓，工藝學習率呈指數級增長，“KLA-Tencor電子束計量部門營銷總監Rich Quattrini說。 “這為我們的客戶在快速將新的光刻技術引入批量生產方面提供了強大的優勢?！?/span>

在今天宣布之前，威爾遜維爾的Mentor與KLA-Tencor的光柵和光掩模部門合作調整OPC算法以增加檢查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收購了幾篇關于MEEF和模擬問題理論方面的技術論文，最近被San Jose KLA-Tencor收購。